电弧离子镀Ti（CxN1—x）薄膜的结构和力学性能研究

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	电弧离子镀Ti（CxN1—x）薄膜的结构和力学性能研究
	李明升; 王福会; 孙超; 蒋长荣; 闻立时
	2002
发表期刊	材料保护
ISSN	1001-1560
卷号	35.0 期号:012 页码:10-12
摘要	利用电弧离子镀设备，沉积了不同C、N比的Ti(CxN1-x)薄膜，研究了C含量对Ti(CxN1-x)薄膜的结构（相结构、择优取向及晶格常数）及力学性能（硬度、膜基结合强度及抗磨损性能）的影响。结果表明，复合镀层的C、N比随CH4、H2流量之比而变化，但原子百分数之和基本不变（约46.5%)。复合镀层结构致密，与基体结合良好，抗磨和切削性能优于TiC和TiN镀层。
关键词	电弧离子镀 Ti（CxN1－x）薄膜结构力学性能研究电弧
收录类别	CSCD
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:1030085
引用统计	被引频次：2[CSCD] [CSCD记录]
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/144261
专题	中国科学院金属研究所
作者单位	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	李明升,王福会,孙超,等. 电弧离子镀Ti（CxN1—x）薄膜的结构和力学性能研究[J]. 材料保护,2002,35.0(012):10-12.
APA	李明升,王福会,孙超,蒋长荣,&闻立时.(2002).电弧离子镀Ti（CxN1—x）薄膜的结构和力学性能研究.材料保护,35.0(012),10-12.
MLA	李明升,et al."电弧离子镀Ti（CxN1—x）薄膜的结构和力学性能研究".材料保护 35.0.012(2002):10-12.