| 纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结 |
| 李亚利; 梁勇; 佟百运; 郑丰; 马贤峰; 崔硕景; 赵伟
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| 1997
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| 发表期刊 | 材料研究学报
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| ISSN | 1005-3093
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| 卷号 | 11.0期号:005页码:473-478 |
| 摘要 | 用六面顶超高压在１．０－５．０ＧＰａ，２５－１５００℃条件下烧结激光法制备的纳米非晶Ｓｉ３Ｎ４粉，有“冷烧结”特性。表现为：在５ＧＰａ，室温下压制的块体密度达理论值的９３％，这是高压下纳米粒子产生流变的结果。 |
| 关键词 | 纳米材料
陶瓷材料
非晶
烧结
激光法
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| 收录类别 | CSCD
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| 语种 | 中文
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| CSCD记录号 | CSCD:360949
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| 引用统计 |
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/144689
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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| 作者单位 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
李亚利,梁勇,佟百运,等. 纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结[J]. 材料研究学报,1997,11.0(005):473-478.
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| APA |
李亚利.,梁勇.,佟百运.,郑丰.,马贤峰.,...&赵伟.(1997).纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结.材料研究学报,11.0(005),473-478.
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| MLA |
李亚利,et al."纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结".材料研究学报 11.0.005(1997):473-478.
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