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工业纯α—Ti氢处理产生的微观缺陷及其作用
康强; 赖祖涵; 张彩碚; 邓文; 熊良钺
1995
Source Publication中国有色金属学报
ISSN1004-0609
Volume5.0Issue:002Pages:89-92
Abstract用正电子湮没、TEM和金相方法研究了不同程度氢处理的工业纯α-Ti产生的微观缺陷及其作用。实验结果表明:渗氢后材料内缺陷数量远大于除氢后材料内的缺陷数量,当渗氢量为0.58%时,渗氢后材料内的缺陷主要是位错;随氢含量增加,单空位的数量也随之增加;当氢含量达2.11%时,其缺陷主要是单空位,或者是其自由体积相当于单空位的点缺陷。TEM和金相观察表明,渗氢后位错存在于α-Ti基体中。除氢后晶粒明显细化
Keyword正电子湮没 渗氢 全相 缺陷
Indexed ByCSCD
Language中文
CSCD IDCSCD:288810
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Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/148373
Collection中国科学院金属研究所
Affiliation中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
康强,赖祖涵,张彩碚,等. 工业纯α—Ti氢处理产生的微观缺陷及其作用[J]. 中国有色金属学报,1995,5.0(002):89-92.
APA 康强,赖祖涵,张彩碚,邓文,&熊良钺.(1995).工业纯α—Ti氢处理产生的微观缺陷及其作用.中国有色金属学报,5.0(002),89-92.
MLA 康强,et al."工业纯α—Ti氢处理产生的微观缺陷及其作用".中国有色金属学报 5.0.002(1995):89-92.
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