| 光激发发荧光谱术分析Co-Cr-Al（Y）纳米涂层的氧化II.Al_2O_3膜应力测量与分析 | |
| Alternative Title | Photo-stimulated luminescence spectroscopic analysis of the oxidation of magnetron sputtered Co-Cr-Al(Y) nanocoatings II. Residual Stresses and Mechanical Behavior of Al_2O_3 Scale |
| 袁晓; 王福会 | |
| 2003 | |
| Source Publication | 金属学报
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| ISSN | 0412-1961 |
| Volume | 39Issue:10Pages:1060-1064 |
| Abstract | 用光激发荧光谱术分析测量磁控溅射Co-Cr-Al（Y）纳米涂层经1000，1100和1200 ℃氧化后Al_2O_3膜中的残余应力，获得如下结果：（1）残余应力随氧化温度升高而增大；（2）暂态氧化出现的区域应力值明显低于无暂态氧化的区域；（3）两种涂层1000 ℃下形成的氧化膜中的残余应力相差不大，但在1100和1200 ℃下，含Y涂层形成的氧化膜中的残余应力比不含Y中的高。对实验结果进行了分析。 |
| Keyword | 光激发荧光谱术 Al_2O_3残余应力 磁控溅射Co-Cr-Al（Y） 纳米涂层 |
| Indexed By | CSCD |
| Language | 中文 |
| CSCD ID | CSCD:1267047 |
| Citation statistics | |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/151803 |
| Collection | 中国科学院金属研究所 |
| Affiliation | 中国科学院金属研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 袁晓,王福会. 光激发发荧光谱术分析Co-Cr-Al（Y）纳米涂层的氧化II.Al_2O_3膜应力测量与分析[J]. 金属学报,2003,39(10):1060-1064. |
| APA | 袁晓,&王福会.(2003).光激发发荧光谱术分析Co-Cr-Al（Y）纳米涂层的氧化II.Al_2O_3膜应力测量与分析.金属学报,39(10),1060-1064. |
| MLA | 袁晓,et al."光激发发荧光谱术分析Co-Cr-Al（Y）纳米涂层的氧化II.Al_2O_3膜应力测量与分析".金属学报 39.10(2003):1060-1064. |
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