| 管道热丝CVC金刚石膜反应器温度场的数值计算 |
| 其他题名 | Numerical Study on the Temperature Field of Reactor Wall for HFCVD Diamond Films
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| 汪爱英; 纪爱玲; 邹友生; 孙超; 黄荣芳; 闻立时
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| 2002
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| 发表期刊 | 人工晶体学报
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| ISSN | 1000-985X
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| 卷号 | 31期号:6页码:576-582 |
| 摘要 | 在热丝化学气相沉积（HFCVD）金刚石膜的传统管道反应器中，对不同传热机制下管道壁温度场的空间分布进行了模拟计算。结果表明，管道壁温度场在纯热辐射机制作用下的分布很不均匀；在绝热和恒温的边界条件下考虑热传导作用后，管道壁温度分布的均匀性大大提高；进一步的热对流作用仅提高管道壁的总体温度，并不显著改变管道壁温度场的均匀性分布。 |
| 关键词 | 热丝化学气相沉积
金刚石膜
温度场
模拟计算
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| 收录类别 | CSCD
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| 语种 | 中文
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| CSCD记录号 | CSCD:1016529
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| 引用统计 |
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/153136
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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| 作者单位 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
汪爱英,纪爱玲,邹友生,等. 管道热丝CVC金刚石膜反应器温度场的数值计算[J]. 人工晶体学报,2002,31(6):576-582.
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| APA |
汪爱英,纪爱玲,邹友生,孙超,黄荣芳,&闻立时.(2002).管道热丝CVC金刚石膜反应器温度场的数值计算.人工晶体学报,31(6),576-582.
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| MLA |
汪爱英,et al."管道热丝CVC金刚石膜反应器温度场的数值计算".人工晶体学报 31.6(2002):576-582.
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