| ZnO：Al薄膜的组织结构与性能 |
| 裴志亮; 谭明晖; 杜昊; 陈猛; 孙超; 黄荣芳; 闻立时
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| 2000
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| 发表期刊 | 材料研究学报
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| ISSN | 1005-3093
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| 卷号 | 14.0期号:005页码:538-542 |
| 摘要 | 用直流磁控反应溅射合金制备了ＺｎＯ薄膜，研究了衬底温度和退火温度对薄膜的结构及电学和光学性能的影响。衬底温度升高能改善薄膜的电学特性，其原因是薄膜晶粒尺寸的增大。温度升高导致薄膜基本光学吸收边向短波移动，但对高透射区（４５０～８５０ｎｍ）的透射率影响不大。 |
| 关键词 | ZnO薄膜
透射率
合金靶Al／Zn
组织结构
性能
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| 收录类别 | CSCD
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| 语种 | 中文
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| CSCD记录号 | CSCD:550927
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| 引用统计 |
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/156244
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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| 作者单位 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
裴志亮,谭明晖,杜昊,等. ZnO：Al薄膜的组织结构与性能[J]. 材料研究学报,2000,14.0(005):538-542.
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| APA |
裴志亮.,谭明晖.,杜昊.,陈猛.,孙超.,...&闻立时.(2000).ZnO：Al薄膜的组织结构与性能.材料研究学报,14.0(005),538-542.
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| MLA |
裴志亮,et al."ZnO：Al薄膜的组织结构与性能".材料研究学报 14.0.005(2000):538-542.
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