| 用扫描电镜直接观察变形材料中的位错结构──001取向铜单晶疲劳位错结构的研究 | |
| 宫波; 陈道伦; 苏会和; 王中光 | |
| 1997 | |
| Source Publication | 金属学报
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| ISSN | 0412-1961 |
| Volume | 33Issue:6Pages:561-565 |
| Abstract | 用扫描电镜（SEM）的电了通道讨度（ECC）技术研究了001取向铜单晶中的疲劳位错结构结果表明，SEMECC技术不仅可以真实地、全面地显示疲劳位错组态，而且还揭示了表面出现的宏观形变带与位错结构的对应关系. |
| Keyword | 扫描电镜 电子通道衬度技术 铜单晶体 位错结构 |
| Indexed By | CSCD |
| Language | 中文 |
| CSCD ID | CSCD:382740 |
| Citation statistics |
Cited Times:1[CSCD]
[CSCD Record]
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| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/156643 |
| Collection | 中国科学院金属研究所 |
| Affiliation | 中国科学院金属研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 宫波,陈道伦,苏会和,等. 用扫描电镜直接观察变形材料中的位错结构──001取向铜单晶疲劳位错结构的研究[J]. 金属学报,1997,33(6):561-565. |
| APA | 宫波,陈道伦,苏会和,&王中光.(1997).用扫描电镜直接观察变形材料中的位错结构──001取向铜单晶疲劳位错结构的研究.金属学报,33(6),561-565. |
| MLA | 宫波,et al."用扫描电镜直接观察变形材料中的位错结构──001取向铜单晶疲劳位错结构的研究".金属学报 33.6(1997):561-565. |
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