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低表面活性剂浓度下有序介孔SiO2的制备及性能
其他题名Synthesis and Properties of Ordered Mesoporous Silica in a Low Surfactant Condition
王金忠1; 赵岩2; 王明光1; 张彩碚1
2002
发表期刊东北大学学报:自然科学版
ISSN1005-3026
卷号23.0期号:009页码:911-914
摘要在碱性条件下,采用低浓度和阳离子表面活性剂,利用表面添生剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用,在溶液中形成分子自组装体,从而形成有序排列的介孔SiO2材料,水热和室温碱性条件下,表面活性剂与硅源的粒子数比为0.06:1。由HRTEM分析,小角度XRD分析,TG-DTA分析及FT-IR分析等研究表明:在较低的表面活性剂浓度下降,通过分子自组装体做模板剂,最终反应物经一定工艺处理,可形成六方结构介孔SiO2。水热条件下使分子的作用增强,提高介孔骨架中硅原子的聚集度,由于铝原子的引入取代部分子原子导致晶格增大,并使有序介孔结构保持完好,介孔SiO2孔道大小3-4nm,六方结构排列,介孔结构保持完整的最佳煅烧温度为500℃。
关键词介孔SiO2 表面活性剂 模板剂 分子自组装 有序性 六方结构 介孔骨架 低浓度 二氧化硅 介孔材料
收录类别CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:986312
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/157494
专题中国科学院金属研究所
作者单位1.东北大学
2.中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王金忠,赵岩,王明光,等. 低表面活性剂浓度下有序介孔SiO2的制备及性能[J]. 东北大学学报:自然科学版,2002,23.0(009):911-914.
APA 王金忠,赵岩,王明光,&张彩碚.(2002).低表面活性剂浓度下有序介孔SiO2的制备及性能.东北大学学报:自然科学版,23.0(009),911-914.
MLA 王金忠,et al."低表面活性剂浓度下有序介孔SiO2的制备及性能".东北大学学报:自然科学版 23.0.009(2002):911-914.
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