| 退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响 |
| 王宏; 张文杰; 朱圣龙; 李瑛; 王福会
|
| 2010-02-15
|
| 发表期刊 | 材料保护
 |
| 期号 | 2页码:57-60+81 |
| 摘要 | 采用磁控反应溅射制备了纯TiO2薄膜和Fe掺杂的TiO2薄膜,研究了退火对2种TiO2薄膜结构和光催化活性的影响。退火前TiO2薄膜与基体结合良好,退火后薄膜发生了开裂,薄膜与基体的结合变差。TiO2薄膜在700℃以下退火后仍保持着锐钛矿型晶体结构,但衍射峰的强度有明显的增强,说明组成薄膜的晶粒在退火过程中长大;当退火温度高于800℃时,发生了从锐钛矿向金红石型的转变。退火后TiO2薄膜的紫外可见光透射率有较大辐度的下降;甲基橙溶液的光催化降解速率随着退火温度升高而下降。 |
| 部门归属 | 沈阳理工大学环境与化学工程学院;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;
|
| 关键词 | Tio_2薄膜
磁控溅射
退火
光催化活性
|
| 文献类型 | 期刊论文
|
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23880
|
| 专题 | 中国科学院金属研究所
|
推荐引用方式
GB/T 7714 |
王宏,张文杰,朱圣龙,等. 退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响[J]. 材料保护,2010(2):57-60+81.
|
| APA |
王宏,张文杰,朱圣龙,李瑛,&王福会.(2010).退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响.材料保护(2),57-60+81.
|
| MLA |
王宏,et al."退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响".材料保护 .2(2010):57-60+81.
|
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论