| 磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究 |
| 张文杰; 朱圣龙; 李瑛; 王福会; 何红波
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| 2009-03-15
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| 发表期刊 | 电镀与精饰
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| 期号 | 3页码:1-4 |
| 摘要 | 采用混合靶直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上溅射沉积了含有氧化钇的TiO2薄膜。X-射线光电子能谱分析结果表明,薄膜是由Y2O3和TiO2复合氧化物组成的。钇的存在会抑制薄膜中二氧化钛晶体的形成。薄膜的紫外可见光谱透射率略有下降,而反射率有所增加。钇的掺杂对二氧化钛薄膜的光催化活性起负作用,光催化降解甲基橙反应的活性随钇含量的增加而下降。 |
| 部门归属 | 沈阳理工大学环境与化学工程学院;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;中国科学院沈阳应用生态研究所;
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| 关键词 | Tio2薄膜
磁控反应溅射
钇掺杂
光催化活性
降解
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24167
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
张文杰,朱圣龙,李瑛,等. 磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究[J]. 电镀与精饰,2009(3):1-4.
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| APA |
张文杰,朱圣龙,李瑛,王福会,&何红波.(2009).磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究.电镀与精饰(3),1-4.
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| MLA |
张文杰,et al."磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究".电镀与精饰 .3(2009):1-4.
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