| ZnO:Al薄膜的组织结构与性能 |
| 裴志亮,谭明晖,杜昊,陈猛,孙超,黄荣芳,闻立时
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| 2000-10-25
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| 发表期刊 | 材料研究学报
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| 期号 | 5页码:538-542 |
| 摘要 | 用直流磁控反应溅射合金靶制备了ＺｎＯ薄膜，研究了衬底温度和退火温度对薄膜的结构及电学和光学性能的影响．衬底温度升高能改善薄膜的电学特性，其原因是薄膜晶粒尺寸的增大温度升高导致薄膜基本光学吸收边向短波移动，但对高透射区（４５０～８５０ｎｍ）的透射率影响不大． |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所!沈阳市110015,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所
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| 关键词 | Zno 薄膜
温度
光学吸收边
透射率
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27158
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
裴志亮,谭明晖,杜昊,陈猛,孙超,黄荣芳,闻立时. ZnO:Al薄膜的组织结构与性能[J]. 材料研究学报,2000(5):538-542.
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| APA |
裴志亮,谭明晖,杜昊,陈猛,孙超,黄荣芳,闻立时.(2000).ZnO:Al薄膜的组织结构与性能.材料研究学报(5),538-542.
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| MLA |
裴志亮,谭明晖,杜昊,陈猛,孙超,黄荣芳,闻立时."ZnO:Al薄膜的组织结构与性能".材料研究学报 .5(2000):538-542.
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