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激光低温沉积金刚石膜
冯钟潮,张炳春,赵岩,王亚庆
1996-10-25
发表期刊材料研究学报
期号5页码:521-524
摘要用XeCl紫外与CO2红外复合激光化学气相沉积方法,在340℃硅衬底上沉积成高纯金刚石膜。
部门归属中国科学院金属研究所
关键词金刚石 激光 化学气相沉积 低温
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/27958
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
冯钟潮,张炳春,赵岩,王亚庆. 激光低温沉积金刚石膜[J]. 材料研究学报,1996(5):521-524.
APA 冯钟潮,张炳春,赵岩,王亚庆.(1996).激光低温沉积金刚石膜.材料研究学报(5),521-524.
MLA 冯钟潮,张炳春,赵岩,王亚庆."激光低温沉积金刚石膜".材料研究学报 .5(1996):521-524.
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