| 金属薄膜形成过程中电导特性变化的有效媒质理论 |
| 曹晓晖,唐兆麟,黄荣芳,闻立时,师昌绪
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| 1996-04-18
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发表期刊 | 金属学报
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期号 | 4页码:404-408 |
摘要 | 利用有效媒质理论描述了金属薄膜形成过程中电导率变化规律,与实验测得的Al薄膜形成过程中电导率变化结果比较接近.分析和讨论了一些影响计算结果准确性的因素. |
部门归属 | 中国科学院金属研究所
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关键词 | 薄膜
电导率
有效媒质理论
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文献类型 | 期刊论文
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条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28043
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专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
曹晓晖,唐兆麟,黄荣芳,闻立时,师昌绪. 金属薄膜形成过程中电导特性变化的有效媒质理论[J]. 金属学报,1996(4):404-408.
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APA |
曹晓晖,唐兆麟,黄荣芳,闻立时,师昌绪.(1996).金属薄膜形成过程中电导特性变化的有效媒质理论.金属学报(4),404-408.
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MLA |
曹晓晖,唐兆麟,黄荣芳,闻立时,师昌绪."金属薄膜形成过程中电导特性变化的有效媒质理论".金属学报 .4(1996):404-408.
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