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金属薄膜形成过程中电导特性变化的有效媒质理论
曹晓晖,唐兆麟,黄荣芳,闻立时,师昌绪
1996-04-18
发表期刊金属学报
期号4页码:404-408
摘要利用有效媒质理论描述了金属薄膜形成过程中电导率变化规律,与实验测得的Al薄膜形成过程中电导率变化结果比较接近.分析和讨论了一些影响计算结果准确性的因素.
部门归属中国科学院金属研究所
关键词薄膜 电导率 有效媒质理论
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28043
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
曹晓晖,唐兆麟,黄荣芳,闻立时,师昌绪. 金属薄膜形成过程中电导特性变化的有效媒质理论[J]. 金属学报,1996(4):404-408.
APA 曹晓晖,唐兆麟,黄荣芳,闻立时,师昌绪.(1996).金属薄膜形成过程中电导特性变化的有效媒质理论.金属学报(4),404-408.
MLA 曹晓晖,唐兆麟,黄荣芳,闻立时,师昌绪."金属薄膜形成过程中电导特性变化的有效媒质理论".金属学报 .4(1996):404-408.
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