| 用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式 |
| 邓文; 熊良钺; 龙期威; 王淑荷; 郭建亭
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| 1992-10-27
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| 发表期刊 | 金属学报
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| 期号 | 10页码:21-24 |
| 摘要 | 本文用正电子湮没技术(PAT)研究了不同硼含量的单晶和多晶Ni_3Al中硼原子的存在形式。在Ni_3Al合金中加入少量硼(≤1.37％)时,一部分硼原子以间隙方式溶解到基体中,使晶格发生畸变,导致基体中正电子寿命(τ)增长;另一部分硼偏聚到空位型缺陷上,产生“填充效应”,导致平均寿命■和S参数下降。硼量为2.22at.-％时,缺陷态的τ显著增长,■和S参数增大,表明在晶界成晶内析出硼化物,诱发了较多的自由体积较大的缺陷。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 中国科学院国际材料物理中心 沈阳(110015),中国科学院国际材料物理中心,中国科学院国际材料物理中心
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| 关键词 | Ni_3al
正电子湮没
硼含量
缺陷
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/28752
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
邓文,熊良钺,龙期威,等. 用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式[J]. 金属学报,1992(10):21-24.
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| APA |
邓文,熊良钺,龙期威,王淑荷,&郭建亭.(1992).用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式.金属学报(10),21-24.
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| MLA |
邓文,et al."用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式".金属学报 .10(1992):21-24.
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