| 磁控溅射及多弧镀靶材 | |
| 中国科学院金属研究所 | |
| 2003 | |
| 关键词 | 磁控溅射 多弧镀靶材 合金靶材 高纯铬靶 刀具材料 茶色玻璃镀膜 |
| 完成单位 | 中国科学院金属研究所; |
| 英文摘要 | 项目介绍：用于磁控溅射镀茶色玻璃的高纯铬靶（板状、圆柱状），现用真空感应熔炼铸造法生产，提高了质量（纯度达99.5％以上），降低了成本，供给国内、外厂家使用。多弧氮化钛铝镀用于刃具及装饰行业，硬度高、韧性好、抗氧化温度高，可提高刀具寿命5-7倍。为其使用的Ti-Al(5、10、30％)合金靶材，用特种真空感应熔铸造技术生产，规格齐全，价廉物美，销往国内外使用。 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 成果 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/68504 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 中国科学院金属研究所. 磁控溅射及多弧镀靶材. 2003. |
| 条目包含的文件 | 条目无相关文件。 | |||||
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