| 有机硅烷激光气相合成硅基超细粉 |
| 梁勇; 李亚利; 郑丰; 肖克沈; 线全刚
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| 1999
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| 关键词 | 专利技术
激光气相合成
激光应用
化合物合成
气相反应
碳化硅
氮化硅
硅基超细粉
超细粉
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| 完成单位 | 中国科学院金属研究所;
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| 英文摘要 | 该发明为硅基超细粉的制备工艺，是一种以有机硅烷为原料激光气相合成硅基超细粉的方法，包括制备平均粒径〈５０ｎｍ的Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉、ＳｉＣ、Ｓｉ／Ｎ／Ｃ系列粉。硅基超细粉具有重要的结构和功能应用。其中超细Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉粉可用于光学超精抛光、吸波材料及传感器材料；Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉、ＳｉＣ均为典型特种陶瓷体系，具有高硬、高强、较高韧性和高温强芳，。做为添加剂，超细Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉、ＳｉＣ可做为成倍提高普通陶瓷或医用陶瓷的力学性能的添加组元；超细Ｓｉ／Ｎ／Ｃ粉，可制得纳米复合Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉ＳｉＣ陶瓷材料，具有突出的韧性和高温强度及共价健陶瓷材料唯一发现的超塑性。激光气相法是采用高能激光束与反应气流作用发生能量共振进行分解合成，粒子形核生长微粒在瞬间完成。该方法可形成稳定、均匀可控、无壁的小反应区以及通过工艺参数可对反应过程进行精确控制，因而特别适合制备高纯、无团聚、粒径小而均匀及组分、结晶型可 上述超细粹。目前国际公认为最有前途的纳米粉体合成技术，与传统的制备技术如等离子体加热法、化学气相法以及热管炉加热示比较有多方面优势。美国自ＭＩＴ于８０年代初发表激光法以来，主要用于制备优质Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉、ＳｉＣ、Ｓｉ／Ｎ／ｃ超细粉，所采用主要原料为硅烷（ＳｉＨ〈，４〉）。由于粉体成本高，因而原料成本是限制将此方法做商业应用的关键问题，也使得此技术一直限于实验室水平。该发明在中国建立第一条纳米硅基粉工业生产线，产品已进入美国、欧洲市场。已取得显著的经济效益。 |
| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 成果
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/69293
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
梁勇,李亚利,郑丰,等. 有机硅烷激光气相合成硅基超细粉. 1999.
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