IMR OpenIR
工艺参数对电弧离子镀膜过程中基体温度的影响
黄美东; 中国科学院金属研究所; 孙超; 闻立时; 林国强; 董闯
2002-08-01
Conference Name首届中国热处理活动周学术会议
Source Publication首届中国热处理活动周学术会议论文集
Conference Date2002-08-01
Conference Place北京
Publication Place北京
Publisher中国机械工程学会
Abstract用热电偶直接接触法测量了不同工艺参数条件下基体的沉积温度,结果表明,基体偏压幅值越高,电弧电流越大,靶与基体的间距越小,基体的沉积温度越高.设备结构对基体沉积温度也有影响.当工艺参数相同时,不同设备上测得的温度不同,分析表明,基体的沉积温度决定于不同工艺参数条件下离子对基体的平均轰击功率,脉冲偏压是实现电弧离子低温沉积的有效途径之一.
description.department大连理工大学三束国家重点实验室;中国科学院金属研究所;
Keyword工艺参数 电弧离子镀 基体温度 热电偶接触法
Funding Organization中国机械工程学会
Language中文
Document Type会议论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/69508
Collection中国科学院金属研究所
Recommended Citation
GB/T 7714
黄美东,中国科学院金属研究所,孙超,等. 工艺参数对电弧离子镀膜过程中基体温度的影响[C]. 北京:中国机械工程学会,2002.
Files in This Item:
There are no files associated with this item.
Related Services
Recommend this item
Bookmark
Usage statistics
Export to Endnote
Google Scholar
Similar articles in Google Scholar
[黄美东]'s Articles
[中国科学院金属研究所]'s Articles
[孙超]'s Articles
Baidu academic
Similar articles in Baidu academic
[黄美东]'s Articles
[中国科学院金属研究所]'s Articles
[孙超]'s Articles
Bing Scholar
Similar articles in Bing Scholar
[黄美东]'s Articles
[中国科学院金属研究所]'s Articles
[孙超]'s Articles
Terms of Use
No data!
Social Bookmark/Share
All comments (0)
No comment.
 

Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.