| 磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究 | |
| 詹倩; 贺连龙; 李斗星 | |
| 2002-08-19 | |
| 会议名称 | 第十二届全国电子显微学会议 |
| 会议录名称 | 电子显微学报第21卷第5期 |
| 会议日期 | 2002-08-19 |
| 会议地点 | 太原 |
| 出版地 | 北京 |
| 出版者 | 《电子显微学报》编辑部 |
| 摘要 | 本文采用反应射频磁控溅射沉积技术合成Fe-N薄膜,并利用电镜观察研究其微观结构,为进一步优化性能提供依据. |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室(辽宁沈阳) |
| 关键词 | 磁头材料 磁控溅射 Fe-n薄膜 薄膜微结构 电镜观察 |
| 主办者 | 中国物理学会 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 会议论文 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70035 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 詹倩,贺连龙,李斗星. 磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究[C]. 北京:《电子显微学报》编辑部,2002. |
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