Advanced   Register
IMR OpenIR  > 中国科学院金属研究所  > 会议论文

题名: 纳米钛/有机硅涂层在3.5﹪NaCl溶液中的电化学行为
作者: 王成;  江峰;  王福会
出版日期: 2003-10-1
会议日期: 2003-10-01
摘要: 应用电化学交流阻抗(EIS)方法研究了纳米钛/有机硅涂层在3.5﹪NaCl溶液中的交流阻抗谱特征.提出了不同于常规涂层的交流阻抗谱等效电路模型.纳米钛/有机硅涂层的交流阻抗在浸泡开始时即表现出三个时间常数,并一直保持三个时间常数.添加纳米钛后,在所研究的浸泡时间范围内有机硅涂层的阻抗始终保持在较高的数值.纳米钛/有机硅涂层的开路电位随浸泡时间的延长而在开始阶段迅速降低,而后又缓慢升高,最后保持在一个比较稳定的状态.扫描电镜(SEM)观察表明,纳米钛/有机硅涂层的表面较为不平整,分布着许多微观孔洞,EDX分析表明,这些小孔中的钛含量少于其他部位的钛含量.探讨了纳米钛/有机硅涂层的交流阻抗谱等效电路物理模型的微观机制.
会议名称: 第四届全国腐蚀大会
会议文集: 第四届全国腐蚀大会论文集
Appears in Collections:中国科学院金属研究所_会议论文

Files in This Item:

There are no files associated with this item.




Recommended Citation:
王成,江峰,王福会. 纳米钛/有机硅涂层在3.5﹪nacl溶液中的电化学行为[C]. 第四届全国腐蚀大会论文集.北京.中国腐蚀与防护学会.2003.
Service
 Recommend this item
 Sava as my favorate item
 Show this item's statistics
 Export Endnote File
Google Scholar
 Similar articles in Google Scholar
 [王成]'s Articles
 [江峰]'s Articles
 [王福会]'s Articles
CSDL cross search
 Similar articles in CSDL Cross Search
 [王成]‘s Articles
 [江峰]‘s Articles
 [王福会]‘s Articles
Scirus search
 Similar articles in Scirus
Related Copyright Policies
Null
Social Bookmarking
  Add to CiteULike  Add to Connotea  Add to Del.icio.us  Add to Digg  Add to Reddit 
所有评论 (0)
暂无评论
 
评注功能仅针对注册用户开放,请您登录
您对该条目有什么异议,请填写以下表单,管理员会尽快联系您。
内 容:
Email:  *
单位:
验证码:   刷新
您在IR的使用过程中有什么好的想法或者建议可以反馈给我们。
标 题:
 *
内 容:
Email:  *
验证码:   刷新

Items in IR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

 

Valid XHTML 1.0!
Copyright © 2007-2016  中国科学院金属研究所  -Feedback
Powered by CSpace