纳米钛/有机硅涂层在3.5﹪NaCl溶液中的电化学行为

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	纳米钛/有机硅涂层在3.5﹪NaCl溶液中的电化学行为
	王成; 江峰; 王福会
	2003-10-01
会议名称	第四届全国腐蚀大会
会议录名称	第四届全国腐蚀大会论文集
会议日期	2003-10-01
会议地点	北京
出版地	北京
出版者	中国腐蚀与防护学会
摘要	应用电化学交流阻抗(EIS)方法研究了纳米钛/有机硅涂层在3.5﹪NaCl溶液中的交流阻抗谱特征.提出了不同于常规涂层的交流阻抗谱等效电路模型.纳米钛/有机硅涂层的交流阻抗在浸泡开始时即表现出三个时间常数,并一直保持三个时间常数.添加纳米钛后,在所研究的浸泡时间范围内有机硅涂层的阻抗始终保持在较高的数值.纳米钛/有机硅涂层的开路电位随浸泡时间的延长而在开始阶段迅速降低,而后又缓慢升高,最后保持在一个比较稳定的状态.扫描电镜(SEM)观察表明,纳米钛/有机硅涂层的表面较为不平整,分布着许多微观孔洞,EDX分析表明,这些小孔中的钛含量少于其他部位的钛含量.探讨了纳米钛/有机硅涂层的交流阻抗谱等效电路物理模型的微观机制.
部门归属	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室(沈阳)
关键词	交流阻抗纳米钛/有机硅涂层
主办者	中国腐蚀与防护学会
语种	中文
文献类型	会议论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70169
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	王成,江峰,王福会. 纳米钛/有机硅涂层在3.5﹪NaCl溶液中的电化学行为[C]. 北京:中国腐蚀与防护学会,2003.