Advanced   Register
IMR OpenIR  > 中国科学院金属研究所  > 会议论文

题名: 脉冲偏压电弧离子镀的发展现状及前瞻
作者: 闻立时;  黄荣芳
出版日期: 2005-7-14
会议日期: 2005-07-14
摘要:   本文致力于集中探讨脉冲偏压电弧离子镀技术各种表观行为下的深层本质和作用机制,并在此基础上论述其发展走向和取得新进展的可能性。
会议名称: 2005全国真空冶金与表面工程学术会议
会议文集: 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集
Appears in Collections:中国科学院金属研究所_会议论文

Files in This Item:

There are no files associated with this item.




Recommended Citation:
闻立时,黄荣芳. 脉冲偏压电弧离子镀的发展现状及前瞻[C]. 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集.2005.
Service
 Recommend this item
 Sava as my favorate item
 Show this item's statistics
 Export Endnote File
Google Scholar
 Similar articles in Google Scholar
 [闻立时]'s Articles
 [黄荣芳]'s Articles
CSDL cross search
 Similar articles in CSDL Cross Search
 [闻立时]‘s Articles
 [黄荣芳]‘s Articles
Scirus search
 Similar articles in Scirus
Related Copyright Policies
Null
Social Bookmarking
  Add to CiteULike  Add to Connotea  Add to Del.icio.us  Add to Digg  Add to Reddit 
所有评论 (0)
暂无评论
 
评注功能仅针对注册用户开放,请您登录
您对该条目有什么异议,请填写以下表单,管理员会尽快联系您。
内 容:
Email:  *
单位:
验证码:   刷新
您在IR的使用过程中有什么好的想法或者建议可以反馈给我们。
标 题:
 *
内 容:
Email:  *
验证码:   刷新

Items in IR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

 

Valid XHTML 1.0!
Copyright © 2007-2017  中国科学院金属研究所  -Feedback
Powered by CSpace