| 脉冲偏压电弧离子镀的发展现状及前瞻 | |
| 闻立时; 黄荣芳 | |
| 2005-07-14 | |
| 会议名称 | 2005全国真空冶金与表面工程学术会议 |
| 会议录名称 | 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 |
| 会议日期 | 2005-07-14 |
| 会议地点 | 沈阳 |
| 摘要 | 本文致力于集中探讨脉冲偏压电弧离子镀技术各种表观行为下的深层本质和作用机制，并在此基础上论述其发展走向和取得新进展的可能性。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所;中国科学院金属研究所;湖南远科航表面工程有限公司; |
| 关键词 | 电弧离子镀 脉冲偏压 气相沉积镀膜 |
| 主办者 | 中国真空学会 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 会议论文 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70317 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 闻立时,黄荣芳. 脉冲偏压电弧离子镀的发展现状及前瞻[C],2005. |
| 条目包含的文件 | 条目无相关文件。 | |||||
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