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题名: 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
作者: 王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
出版日期: 2005-7-14
会议日期: 2005-07-14
摘要:   本文应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,过控制温度改变TiO2薄膜的光学性质,应用n&kAnalyzer1200测量,温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动,通过XRD和SEM表征发现,随着温度的增加TiO2的体结构由混晶变为单一的锐钛矿相,薄膜的表面的颗粒由多变少,表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑。
会议名称: 2005全国真空冶金与表面工程学术会议
KOS主题词: Temperature;  Reflectance
会议文集: 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集
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王贺权,沈辉,巴德纯,等. 温度对直流反应磁控溅射制备tio2薄膜的光学性质的影响[C]. 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集.2005.
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