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氮化铝薄膜发光性能的研究进展
佟洪波; 巴德纯; 肖金泉; 闻立时
2005-07-14
会议名称2005全国真空冶金与表面工程学术会议
会议录名称2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集
会议日期2005-07-14
会议地点沈阳
摘要  本文介绍了AlN薄膜物理性质及制备方法;综述了AlN薄膜作为薄膜电致发光(TFEL)器件发光层的研究现状;对AlN薄膜的发光性能的应用前景做了展望。
部门归属东北大学,辽宁,沈阳,110004;辽宁石油化工大学,辽宁,抚顺,113001;东北大学,辽宁,沈阳,110004;中国科学院金属研究所,辽宁,沈阳,110016;
关键词薄膜 氮化铝 电致发光 发光性能
主办者中国真空学会
语种中文
文献类型会议论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70343
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
佟洪波,巴德纯,肖金泉,等. 氮化铝薄膜发光性能的研究进展[C],2005.
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