| 磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究 |
| 郑华; 刘实; 于洪波; 朱跃进; 王隆保; 施力群; 刘超卓
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| 2004-06-15
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| 会议名称 | 中国核学会核材料专业分会2004年学术交流会
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| 会议录名称 | 原子能科学技术
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| 会议日期 | 2004-06-15
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| 会议地点 | 上海
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| 摘要 | 本文采用He/Ar复合气氛下磁控溅射方法,在Ti、TiZrYAl和TiMoYAl等3种薄膜中引入浓度(氦-金属比)高达0.19的氦.引入的氦在膜层内沿深度均匀分布,并主要存在于直径为2～5nm的高压He泡内.热解吸实验表明,在相同He含量下,TiHe膜中He的解吸峰温度与氚化钛中衰变产生的3He的解吸峰温度基本一致.与纯钛相比,合金膜中氦的热解吸谱宽化明显,表明He在合金膜内的捕获形式更为复杂. |
| 部门归属 | 中国科学院,金属研究所,辽宁,沈阳,110016;复旦大学,现代物理研究所,上海,200433;
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| 关键词 | 磁控溅射
Ti膜
氦
热解吸
合金膜
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| 主办者 | 中国核学会
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| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 会议论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70361
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
郑华,刘实,于洪波,等. 磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究[C],2004.
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