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题名: 磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究
作者: 郑华;  刘实;  于洪波;  朱跃进;  王隆保;  施力群;  刘超卓
出版日期: 2004-6-15
会议日期: 2004-06-15
摘要: 本文采用He/Ar复合气氛下磁控溅射方法,在Ti、TiZrYAl和TiMoYAl等3种薄膜中引入浓度(氦-金属比)高达0.19的氦.引入的氦在膜层内沿深度均匀分布,并主要存在于直径为2~5nm的高压He泡内.热解吸实验表明,在相同He含量下,TiHe膜中He的解吸峰温度与氚化钛中衰变产生的3He的解吸峰温度基本一致.与纯钛相比,合金膜中氦的热解吸谱宽化明显,表明He在合金膜内的捕获形式更为复杂.
会议名称: 中国核学会核材料专业分会2004年学术交流会
会议文集: 原子能科学技术
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郑华,刘实,于洪波,等. 磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究[C]. 原子能科学技术.2004.
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