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IMR OpenIR  > 中国科学院金属研究所  > 会议论文

题名: 电弧离子镀氮化铬涂层的沉积工艺研究
作者: 李明升;  冯长杰;  王福会
出版日期: 2006-7-24
会议日期: 2006-07-24
摘要: 氮化铬陶瓷涂层具有低的磨擦系数、高的硬度、良好的热稳定性和抗腐蚀性,被认为是最有希望的TiN替代材料之一.本研究利用脉冲偏压电弧离子镀设备,以不同的沉积工艺在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢基体上沉积了氮化铬陶瓷涂层,研究了基体上脉冲偏压的施加及沉积过程中反应气体N2分压对氮化铬涂层的表面熔滴、沉积速率及相结构的影响规律.探讨了偏压及N2分压在涂层沉积中的作用机制.
会议名称: 2006年全国功能材料学术年会
会议文集: 功能材料
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李明升,冯长杰,王福会. 电弧离子镀氮化铬涂层的沉积工艺研究[C]. 功能材料.2006.
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