| 电弧离子镀氮化铬涂层的沉积工艺研究 |
| 李明升; 冯长杰; 王福会
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| 2006-07-24
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| 会议名称 | 2006年全国功能材料学术年会
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| 会议录名称 | 功能材料
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| 会议日期 | 2006-07-24
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| 会议地点 | 敦煌
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| 摘要 | 氮化铬陶瓷涂层具有低的磨擦系数、高的硬度、良好的热稳定性和抗腐蚀性,被认为是最有希望的TiN替代材料之一.本研究利用脉冲偏压电弧离子镀设备,以不同的沉积工艺在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢基体上沉积了氮化铬陶瓷涂层,研究了基体上脉冲偏压的施加及沉积过程中反应气体N2分压对氮化铬涂层的表面熔滴、沉积速率及相结构的影响规律.探讨了偏压及N2分压在涂层沉积中的作用机制. |
| 部门归属 | 江西科技师范学院,江西省材料表面工程重点实验室,江西,南昌,330013;中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016;中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016;
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| 关键词 | 电弧离子镀
氮化铬
N2分压
双极脉冲偏压
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| 主办者 | 中国仪器仪表学会
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| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 会议论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70435
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
李明升,冯长杰,王福会. 电弧离子镀氮化铬涂层的沉积工艺研究[C],2006.
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