| 外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO:Al薄膜的研究 |
| 张小波; 裴志亮; 肖金泉; 宫骏; 孙超
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| 2006-09
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| 会议名称 | 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会
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| 会议录名称 | 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会
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| 会议日期 | 2006-09
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| 会议地点 | 北京
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| 摘要 | 采用外加电磁线圈直流磁控溅射法低温制备了ZnO:Al透明导电薄膜,研究了不同沉积参数对AZO薄膜电学性能的影响.通过改变外加同轴线圈磁场来改变基片处等离子体密度,并用Langmuir探针进行了测量.研究结果表明:低温沉积(＜100℃)时,增加基片区域等离子体密度可以显著改善AZO薄膜的电阻率及其空间均匀性,同时也改善了表面形貌,并对其机理进行了分析。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所材料表面工程研究部,沈阳,110016
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| 关键词 | 透明导电薄膜
直流磁控溅射法
电磁线圈
低温沉积
电阻率
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| 主办者 | 中国材料研究学会
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| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 会议论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70497
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
张小波,裴志亮,肖金泉,等. 外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO:Al薄膜的研究[C],2006.
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