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题名: 外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO:Al薄膜的研究
作者: 张小波;  裴志亮;  肖金泉;  宫骏;  孙超
出版日期: 2006-9
会议日期: 2006-09
摘要: 采用外加电磁线圈直流磁控溅射法低温制备了ZnO:Al透明导电薄膜,研究了不同沉积参数对AZO薄膜电学性能的影响.通过改变外加同轴线圈磁场来改变基片处等离子体密度,并用Langmuir探针进行了测量.研究结果表明:低温沉积(<100℃)时,增加基片区域等离子体密度可以显著改善AZO薄膜的电阻率及其空间均匀性,同时也改善了表面形貌,并对其机理进行了分析。
会议名称: 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会
KOS主题词: resistivity
会议文集: 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会
Appears in Collections:中国科学院金属研究所_会议论文

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张小波,裴志亮,肖金泉,等. 外加电磁直流磁控溅射法低温沉积zno:al薄膜的研究[C]. 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会.2006.
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