AlGaN/InGaN异质结中一种新缺陷的TEM表征 | |
闫鹏飞; 隋曼龄 | |
2008-11-30 | |
会议名称 | 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议 |
会议录名称 | 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议论文集 |
会议日期 | 2008-11-30 |
会议地点 | 广州 |
摘要 | 对用化学气相沉积法(MOCVD)在蓝宝石(Al2O3)衬底上生长的紫外光发光二极管(UV-LED)圆晶片进行了透射电子显微镜(TEM)观察研究。发现在外延膜的表面交错存在着一种宽约300-700 nm,长达数十微米以上的带状缺陷。这种缺陷存在于AlGaN/InGaN组成的多层量子阱区,它还能作为位错发射源在(0001)面和{11-22}面上产生大量的位错环。对材料的发光性能造成严重影响。根据位错滑移和多层膜的成分来看,这种缺陷是由于拉应力引起的。 |
部门归属 | 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,沈阳 110016 |
关键词 | 氮化镓异质结 化学气相沉积法 蓝宝石衬底 紫外光发光二极管 位错滑移 带状缺陷 发光性能 |
主办者 | 中国电子学会;广州市科协 |
语种 | 中文 |
文献类型 | 会议论文 |
条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70785 |
专题 | 中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 闫鹏飞,隋曼龄. AlGaN/InGaN异质结中一种新缺陷的TEM表征[C],2008. |
条目包含的文件 | 条目无相关文件。 |
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