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AlGaN/InGaN异质结中一种新缺陷的TEM表征
闫鹏飞; 隋曼龄
2008-11-30
会议名称第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
会议录名称第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议论文集
会议日期2008-11-30
会议地点广州
摘要对用化学气相沉积法(MOCVD)在蓝宝石(Al2O3)衬底上生长的紫外光发光二极管(UV-LED)圆晶片进行了透射电子显微镜(TEM)观察研究。发现在外延膜的表面交错存在着一种宽约300-700 nm,长达数十微米以上的带状缺陷。这种缺陷存在于AlGaN/InGaN组成的多层量子阱区,它还能作为位错发射源在(0001)面和{11-22}面上产生大量的位错环。对材料的发光性能造成严重影响。根据位错滑移和多层膜的成分来看,这种缺陷是由于拉应力引起的。
部门归属中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,沈阳 110016
关键词氮化镓异质结 化学气相沉积法 蓝宝石衬底 紫外光发光二极管 位错滑移 带状缺陷 发光性能
主办者中国电子学会;广州市科协
语种中文
文献类型会议论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70785
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
闫鹏飞,隋曼龄. AlGaN/InGaN异质结中一种新缺陷的TEM表征[C],2008.
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