| 空气氧化选择性刻蚀金属性单壁碳纳米管 | |
| 于冰; 侯鹏翔; 刘畅; 成会明 | |
| 2009-10 | |
| 会议名称 | 第九届全国新型炭材料学术研讨会 |
| 会议录名称 | 第九届全国新型炭材料学术研讨会论文集 |
| 会议日期 | 2009-10 |
| 会议地点 | 厦门 |
| 摘要 | 我们报道一种简单有效选择性刻蚀金属性单壁碳纳米管的方法。该方法为在空气中高温氧化浮动催化化学气相沉积法制备的单壁碳纳米管薄膜。经氧化处理后，金属性和小直径的单壁碳纳米管基本被刻蚀掉，剩余产物为直径大于1.3 nm的半导体性单壁碳纳米管。这种尺度的半导体性单壁碳纳米管适用于构建纳米电子器件。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室 沈阳 110016 |
| 关键词 | 单壁碳纳米管 选择性刻蚀 空气氧化 化学气相沉积法 纳米电子器件 |
| 主办者 | 中国科学院山西煤炭化学研究所 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 会议论文 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70850 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 于冰,侯鹏翔,刘畅,等. 空气氧化选择性刻蚀金属性单壁碳纳米管[C],2009. |
| 条目包含的文件 | 条目无相关文件。 | |||||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [于冰]的文章 |
| [侯鹏翔]的文章 |
| [刘畅]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [于冰]的文章 |
| [侯鹏翔]的文章 |
| [刘畅]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [于冰]的文章 |
| [侯鹏翔]的文章 |
| [刘畅]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论