利用电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅱ-薄液膜对纯镁腐蚀阳极过程的影响

IMR OpenIR

	利用电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅱ-薄液膜对纯镁腐蚀阳极过程的影响
	陈崇木; 张涛; 邵亚薇; 孟国哲; 王福会; 李晓刚; 董超芳
	2008-07
会议名称	2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会
会议录名称	2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会论文集
会议日期	2008-07
会议地点	沈阳
摘要	本文利用电化学噪声研究了纯镁在不同厚度薄液膜下的腐蚀行为。结果表明：与本体溶液相比,薄液膜对纯镁腐蚀的阳极过程有使点蚀的孕育速度减缓作用的同时还有使点蚀生长的概率增加的作用；薄液膜下纯镁表面产生的亚稳态点蚀牛长成稳态点蚀的概率比本体溶液下的大。点蚀孕育速度比点蚀生长概率对阳极过程的影响更大，这导致r薄液膜下纯镁腐蚀的阳极过程减缓。
部门归属	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院腐蚀与防护实验室,哈尔滨,150001;哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院腐蚀与防护实验室,哈尔滨,150001;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验窒,沈阳,110016;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016;北京科技大学腐蚀与防护中心,北京,100083;北京科技大学腐蚀与防护中心,北京,100083;
关键词	纯镁材料电化学腐蚀点蚀孕育阳极过程
主办者	中国腐蚀与防护学会
语种	中文
文献类型	会议论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70880
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	陈崇木,张涛,邵亚薇,等. 利用电化学方法研究纯镁在薄液膜下的腐蚀行为Ⅱ-薄液膜对纯镁腐蚀阳极过程的影响[C],2008.