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题名: 氧、氩分压对直流反应溅射制备ZAO薄膜的性能影响
作者: 陆峰;  徐成海;  闻立时;  吴玉厚
出版日期: 2010-5
会议日期: 2010-05
摘要: 采用直流反应磁控溅射技术,制备获得ZAO薄膜,研究氧分压、氩分压关键制备工艺参数对ZAO薄膜的组织结构、光、电性能的影响,并获得了最佳的氧、氩分压制备参数,利用该参数制备ZAO薄膜,能够获得在可见光范围内的平均透射率>85%,最低电阻率为4.5×10-4Ωcm的ZAO薄膜,其光电性能均满足应用需求.
会议名称: 第九届全国光电技术学术交流会
会议文集: 第九届全国光电技术学术交流会论文集
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陆峰,徐成海,闻立时,等. 氧、氩分压对直流反应溅射制备zao薄膜的性能影响[C]. 第九届全国光电技术学术交流会论文集.2010.
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