| 频比对AZ91D镁合金微弧氧化膜的影响 | |
| 郑俊军; 曹发和; 冷文华; 常林荣; 张鉴清 | |
| 2011-08-21 | |
| Conference Name | 第六届全国腐蚀大会 |
| Source Publication | 第六届全国腐蚀大会论文集 |
| Conference Date | 2011-08-21 |
| Conference Place | 银川 |
| Abstract | 碱性硅酸盐溶液中，AZ91D 镁合金在不同的频比（1 ，5 ，25 ）下进行微弧氧化成膜。频比 FR 是正脉冲频率与负脉冲频率的比值，频比的变化改变了反应过程中脉冲的分布及持续时间，进而影 响MAO 过程施加的能量，导致生成的氧化膜厚度，形貌和均匀度随频比发生显著变化。频比为1 时 生成的MAO 膜更均匀，孔隙率小且膜厚；随频比的增加，得到的氧化膜变得更加多孔，减薄且均匀 度增加；频比的增加导致两个正脉冲间的间隔减小，正周期熔融氧化物不能充分固化，导致形成更多 的放电通道，使得生成的MAO 膜微孔及裂纹增加；同时阴极脉冲的延长致使未充分固化的氧化物不 仅更多的被溶解，而且被阴极反应产生的气体带走量也增加，在氧化膜表面形成许多小坑，导致氧化 减薄且粗糙度增加。频比的变化对MAO 膜内部结构影响不大，膜层的保护性受频比的影响较小。 |
| description.department | 浙江大学化学系,杭州,中国,310027;浙江大学化学系,杭州,中国,310027 中国科学院金属研究所腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,中国,110016; |
| Keyword | Az91d 微弧氧化 频比 耐蚀性 |
| Funding Organization | 中国腐蚀与防护学会 |
| Language | 中文 |
| Document Type | 会议论文 |
| Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/71034 |
| Collection | 中国科学院金属研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 郑俊军,曹发和,冷文华,等. 频比对AZ91D镁合金微弧氧化膜的影响[C],2011. |
| Files in This Item: | There are no files associated with this item. | |||||
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment