| 频比对AZ91D镁合金微弧氧化膜的影响 |
| 郑俊军; 曹发和; 冷文华; 常林荣; 张鉴清
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| 2011-08-21
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| 会议名称 | 第六届全国腐蚀大会
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| 会议录名称 | 第六届全国腐蚀大会论文集
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| 会议日期 | 2011-08-21
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| 会议地点 | 银川
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| 摘要 | 碱性硅酸盐溶液中，AZ91D 镁合金在不同的频比（1 ，5 ，25 ）下进行微弧氧化成膜。频比 FR 是正脉冲频率与负脉冲频率的比值，频比的变化改变了反应过程中脉冲的分布及持续时间，进而影 响MAO 过程施加的能量，导致生成的氧化膜厚度，形貌和均匀度随频比发生显著变化。频比为1 时 生成的MAO 膜更均匀，孔隙率小且膜厚；随频比的增加，得到的氧化膜变得更加多孔，减薄且均匀 度增加；频比的增加导致两个正脉冲间的间隔减小，正周期熔融氧化物不能充分固化，导致形成更多 的放电通道，使得生成的MAO 膜微孔及裂纹增加；同时阴极脉冲的延长致使未充分固化的氧化物不 仅更多的被溶解，而且被阴极反应产生的气体带走量也增加，在氧化膜表面形成许多小坑，导致氧化 减薄且粗糙度增加。频比的变化对MAO 膜内部结构影响不大，膜层的保护性受频比的影响较小。 |
| 部门归属 | 浙江大学化学系,杭州,中国,310027;浙江大学化学系,杭州,中国,310027 中国科学院金属研究所腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,中国,110016;
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| 关键词 | Az91d
微弧氧化
频比
耐蚀性
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| 主办者 | 中国腐蚀与防护学会
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| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 会议论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/71034
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
郑俊军,曹发和,冷文华,等. 频比对AZ91D镁合金微弧氧化膜的影响[C],2011.
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