| 正交电磁场离子源及其在PVD法制备硬质涂层中的应用 |
| 范迪; 雷浩; 宫骏; 孙超
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| 2014-07-25
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| 发表期刊 | 真空
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| 期号 | 4页码:48-52 |
| 摘要 | 离子源是离子束产生的关键部件,正交电磁场离子源是以霍尔电流为理论基础的一类低能离子源。本文综述了考夫曼离子源、霍尔离子源以及阳极层线性离子源的发展历程及其在结构与功能方面的区别,分析了各种离子源在PVD法制备不同体系超硬涂层中的应用及对涂层结构、性能的影响,概述了国内外离子源的现状,并指出了国内离子源存在的问题。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所 材料表面工程研究部
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| 关键词 | 考夫曼离子源
霍尔离子源
阳极层线性离子源
Pvd
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| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/73625
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
范迪,雷浩,宫骏,等. 正交电磁场离子源及其在PVD法制备硬质涂层中的应用[J]. 真空,2014(4):48-52.
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| APA |
范迪,雷浩,宫骏,&孙超.(2014).正交电磁场离子源及其在PVD法制备硬质涂层中的应用.真空(4),48-52.
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| MLA |
范迪,et al."正交电磁场离子源及其在PVD法制备硬质涂层中的应用".真空 .4(2014):48-52.
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