| 多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析 |
| 郎文昌; 高斌; 杜昊; 肖金泉; 谢婷婷; 王向红
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| 2015-06-15
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| 发表期刊 | 真空科学与技术学报
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| 期号 | 6 |
| 摘要 | 电弧离子镀工艺中,弧斑的放电形式、运动速率、运动方式的控制对于减少以至消除大颗粒的发射至关重要。本文采用自主研发的机械式旋转磁控弧源,围绕三种不同模式的旋转磁场下弧斑的放电行为及规律进行了研究,并从弧斑放电的物理机制出发,分析讨论了不同模式的旋转磁场对阴极斑点运动的影响机理。研究结果表明,多模式旋转磁场可以有效提高弧斑的运动速度、扩大放电面积、降低放电功率密度、减少大颗粒的发射,同时还能够大幅度提高靶材的利用率,拓展电弧离子镀的应用。 |
| 部门归属 | 温州职业技术学院材料成型工艺与模具技术重点实验室
; 中国科学院金属研究所材料表面工程研究部
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| 关键词 | 机械式旋转磁控弧源
旋转不对称偏心轴向磁场
旋转偏心横向磁场
旋转偏心四极对顶磁场
旋转偏心拱形磁场
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| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/74375
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
郎文昌,高斌,杜昊,等. 多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析[J]. 真空科学与技术学报,2015(6).
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| APA |
郎文昌,高斌,杜昊,肖金泉,谢婷婷,&王向红.(2015).多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析.真空科学与技术学报(6).
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| MLA |
郎文昌,et al."多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析".真空科学与技术学报 .6(2015).
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