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氯化物三价铬电镀的电化学形核机理
赵焕; 乔永莲; 董宇; 王进军; 张晓冬; 侯磊; 刘伟华; 李庆鹏; 张博; 刘建国; 严川伟; 刘春明
2019-03-15
Source Publication材料保护
Volume52Issue:03Pages:1-5+17
Abstract为研究Cr~(3+)在金属电极表面的电结晶行为,在氯化物三价铬电镀溶液中,采用电化学工作站测试了Cr~(3+)沉积的时间电流曲线,并利用扫描电镜(SEM)分析镀层形貌。结果表明:在镍电极、铜电极和铬电极表面,Cr~(3+)的电沉积均经历了成核过程;铜电极和镍电极表面表现为连续成核转为瞬时成核的机理,铬电极的(I/Im)2-t/tm曲线偏离理论曲线较大,但其表现出较正的形核阶跃电位(-1.1 V);随着阶跃电位的负移,3种电极电沉积的电流极大值逐渐增加,电结晶的扩散速率增加,成核数密度减少,镀层由平整光滑逐渐转变为球状晶胞紧密堆砌,晶胞尺寸逐渐增大;在相同的阶跃电位下,铬电极的沉积电流值更小,成核数密度更大,晶胞尺寸更小。
Keyword电结晶 三价铬电镀 形核机制 恒电位阶跃
MOST Discipline CatalogueTQ153.11
Language中文
WOS SubjectTQ153.11
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/80526
Collection中国科学院金属研究所
Affiliation1.东北大学材料科学与工程学院
2.中国科学院金属研究所
3.沈阳飞机工业(集团)有限公司
4.中国人民解放军驻沈阳飞机工业(集团)有限公司军事代表室
Recommended Citation
GB/T 7714
赵焕,乔永莲,董宇,等. 氯化物三价铬电镀的电化学形核机理[J]. 材料保护,2019,52(03):1-5+17.
APA 赵焕.,乔永莲.,董宇.,王进军.,张晓冬.,...&刘春明.(2019).氯化物三价铬电镀的电化学形核机理.材料保护,52(03),1-5+17.
MLA 赵焕,et al."氯化物三价铬电镀的电化学形核机理".材料保护 52.03(2019):1-5+17.
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