激光化学气相反应生长Ti（C,N）薄膜的成分及微观结构

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	激光化学气相反应生长Ti（C,N）薄膜的成分及微观结构
	张炳春; 李梅; 王亚庆; 冯钟潮
	1998
发表期刊	材料研究学报
ISSN	1005-3093
卷号	12.0 期号:006 页码:663-664
摘要	运用ＸＲＤ，ＥＰＭＡ，ＴＥＭ等手段分析在Ｔｉ－６Ａｌ－４Ｖ基材上用激光化学气相色反应生长的Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）薄膜的成分，结构，显微结构，可在基材表面的形成大面积均匀的Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）膜层，为无明显择优取向的等轴纳米晶，其中有少量的Ｔｉ２Ｎ相，且Ａｌ，Ｖ含量低于基材。
关键词	激光化学气相反应薄膜 Ti（C,N）微观结构
收录类别	CSCD
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:426130
引用统计	被引频次：2[CSCD] [CSCD记录]
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/90040
专题	中国科学院金属研究所
作者单位	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张炳春,李梅,王亚庆,等. 激光化学气相反应生长Ti（C,N）薄膜的成分及微观结构[J]. 材料研究学报,1998,12.0(006):663-664.
APA	张炳春,李梅,王亚庆,&冯钟潮.(1998).激光化学气相反应生长Ti（C,N）薄膜的成分及微观结构.材料研究学报,12.0(006),663-664.
MLA	张炳春,et al."激光化学气相反应生长Ti（C,N）薄膜的成分及微观结构".材料研究学报 12.0.006(1998):663-664.