中文版 | English

在结果中检索

IMR OpenIR

浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助

已选(0)清除 条数/页：   排序方式：
Crack suppression in electrodeposited brass film through controlling growth stresses by co-depositing with Bi 期刊论文
THIN SOLID FILMS, 2023, 卷号: 777, 页码: 9
作者:  Li, Ronghui;  Guan, Yishan;  Fan, Qinna
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2024/01/07
Growth stress  Brass  Thin film  Bismuth  Stacking faults  Cracking  Crack free  Electrodeposition  
电沉积低开裂敏感性黄铜薄膜研究 学位论文
, 北京: 中国科学院金属研究所, 2012
作者:  关沂山
收藏  |  浏览/下载：95/0  |  提交时间：2013/04/12
黄铜  铋  非氰化物镀液  电沉积  开裂  生长应力  耐蚀  堆垛层错  Brass  Bi  Non-cyanide Bath  Electrodeposition  Crack  Growth Stress  Corrosion Resistance  Stacking Fault