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用等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅薄膜 期刊论文
材料研究学报, 2010, 期号: 5, 页码: 547-549
作者:  程华;  张昕;  张广城;  刘汝宏;  吴爱民;  石南林
收藏  |  浏览/下载：119/0  |  提交时间：2012/04/12
材料合成与加工工艺  微晶硅薄膜  Ar稀释sih_4  Ecr-pecvd  微波功率