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Influence of hot filaments arranging on substrate temperature during HFCVD of diamond films 期刊论文
Materials Letters, 2002, 卷号: 56, 期号: 5, 页码: 832-837
作者:  G. H. Song;  J. H. Yoon;  H. S. Kim;  C. Sun;  R. F. Huang;  L. S. Wen
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Simulation  Substrate Temperature Distribution  Diamond Film  Hfcvd  Chemical-vapor-deposition  Heat-transfer  Simulation  Reactor