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Formation of Ti2AlN phase after post-heat treatment of Ti-Al-N films deposited by pulsed magnetron sputtering 期刊论文
Surface & Coatings Technology, 2012, 卷号: 206, 期号: 10, 页码: 2661-2666
作者:  Y. Yang;  M. Keunecke;  C. Stein;  L. J. Gao;  J. Gong;  X. Jiang;  K. Bewilogua;  C. Sun
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Magnetron Sputtering  Heat Treatment  Microstructure  Ti2aln Phase  Ti-al-n Films  Thin-films  m(n+1)Ax(n) Phases  Corrosion  Ti3sic2  Growth  Cr2alc