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Fabrication of uniform Ge-nanocrystals embedded in amorphous SiO2 films using Ge-ion implantation and neutron irradiation methods 期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2011, 卷号: 98, 期号: 7, 页码: 3
作者:  Chen, Q.;  Lu, T.;  Xu, M.;  Meng, C.;  Hu, Y.;  Sun, K.;  Shlimak, I.
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