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Crystallization Behavior of SiO2-Al2O3-ZnO-CaO Glass System at 1123-1273 K 期刊论文
JOURNAL OF THE AMERICAN CERAMIC SOCIETY, 2010, 卷号: 93, 期号: 10, 页码: 3230-3235
作者:  Chen, Minghui;  Zhu, Shenglong;  Wang, Fuhui
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Crystallization Behavior of SiO2-Al2O3-ZnO-CaO Glass System at 1123-1273 K 期刊论文
JOURNAL OF THE AMERICAN CERAMIC SOCIETY, 2010, 卷号: 93, 期号: 10, 页码: 3230-3235
作者:  Chen, Minghui;  Zhu, Shenglong;  Wang, Fuhui
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Arc ion plated-Cr2O3 intermediate film as a diffusion barrier between NiCrAlY and gamma-TiAl 期刊论文
INTERMETALLICS, 2010, 卷号: 18, 期号: 4, 页码: 736-739
作者:  Cheng, Y. X.;  Wang, W.;  Zhu, S. L.;  Xin, L.;  Wang, F. H.
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Titanium aluminides, based on TiAl  Oxidation  Diffusion  Vapour deposition  
Yttrium-doped TiO2 films prepared by means of DC reactive magnetron sputtering 期刊论文
CHEMICAL ENGINEERING JOURNAL, 2009, 卷号: 155, 期号: 1-2, 页码: 83-87
作者:  Zhang, Wenjie;  Wang, Kuanling;  Zhu, Shenglong;  Li, Ying;  Wang, Fuhui;  He, Hongbo
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TiO2 film  Reactive magnetron sputtering  Yttrium doping  Photocatalytic activity  Degradation