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中频反应磁控溅射法制备Al2O3:Ce3+发光薄膜工艺条件优化 会议论文
真空冶金与表面工程--第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2007-06-16
作者:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
收藏  |  浏览/下载：113/0  |  提交时间：2013/08/21
磁控溅射  三氧化二铝  发光薄膜  正交试验  中频反应磁控溅射技术