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总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2005, 卷号: 25.0, 期号: 1.0, 页码: 65-68
作者:  王贺权;  巴德纯;  沈辉;  汪保卫;  闻立时
收藏  |  浏览/下载：109/0  |  提交时间：2021/02/02
TiO2薄膜  光学性质  直流反应磁控溅射  折射率  气压  晶体结构  硅基底  短波  对消  反射率