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总气压对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的光学性质的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2005, 期号: 1, 页码: 69-72
作者:  王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,闻立时
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二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  总气压  反射率