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热解氮化硼在分子束外延中的应用 期刊论文
真空科学与技术, 1985, 期号: 4, 页码: 59-62
作者:  黄运衡;  赵凤鸣
收藏  |  浏览/下载：56/0  |  提交时间：2012/04/12
分子束外延生长:7211  氮化硼:4324  热解:2616  纯度:2045  真空性能:1927  陶瓷材料:1824  源材料:1781  单晶薄膜:1763  高纯石墨:1681  火花源质谱:1449