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一种磁控管溅射装置 成果
2008
完成人/完成单位:  中国科学院金属研究所
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真空镀膜  磁控溅射  靶材  
钢板真空镀锌膜附着强度的研究 期刊论文
真空科学与技术, 1990, 期号: 3, 页码: 195-198
作者:  王琼妹,韩耀文
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基板温度:7550  真空蒸发:3640  中间过渡层:2643  蒸镀法:2540  附着强度:2325  结构分析:1857  真空镀膜机:1510  结合强度:1443  实验结果:1333  冷轧钢板:1134  
有机涂层表面真空镀铝的研究 期刊论文
真空科学与技术, 1990, 期号: 2, 页码: 115-118
作者:  韩耀文,吴克胜
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涂层表面:5566  有机涂层:5349  热力学与动力学:3682  材料表面:2695  真空镀膜:2575  真空室:2112  氧化性:1533  真空镀铝:1487  试验结果:1424  热力学数据:1374  
参加第七届国际真空冶金会议见闻与体会 期刊论文
真空, 1983, 期号: 4, 页码: 1-4+13
作者:  韩耀文
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真空冶金:6742  真空镀膜:3752  会社:3711  参观考察:2209  等离子熔炼:2179  日本:2068  真空电弧重熔:2004  溅射镀膜:1885  真空技术:1701  真空感应:1518