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总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2005, 卷号: 25.0, 期号: 1.0, 页码: 65-68
作者:  王贺权;  巴德纯;  沈辉;  汪保卫;  闻立时
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TiO2薄膜  光学性质  直流反应磁控溅射  折射率  气压  晶体结构  硅基底  短波  对消  反射率  
Nd：YAG脉冲激光诱导化学沉积银 期刊论文
东北大学学报：自然科学版, 2002, 卷号: 23.0, 期号: 004, 页码: 391-393
作者:  孙克;  赵岩;  张彩碚;  李正林
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Nd：YAG脉冲激光  激光诱导化学沉积  选区化学镀  Si基底  硅基底  银  大规模集成电路