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电弧离子镀低温沉积技术的研究 会议论文
首届全国耐蚀耐磨技术及工程应用研讨会论文集, 苏州, 1998-10-01
作者:  黄荣若;  闻立时
收藏  |  浏览/下载：61/0  |  提交时间：2013/08/21
电弧离子镀  低温沉积  薄膜技术  基体材料  
等离子体科学技术应用专题系列介绍 第八讲 气体放电等离子体在薄膜技术上的应用 期刊论文
物理, 1987, 期号: 3, 页码: 157-160
作者:  闻立时
收藏  |  浏览/下载：79/0  |  提交时间：2012/04/12
气体放电等离子体:7619  薄膜技术:3488  Pacvd:3188  离子镀:2433  溅射:1853  气相沉积:1770  沉积温度:1548  科学技术:1478  体表面:1197  粒子:1044