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Effects of nitrogen pressure and pulse bias voltage on the properties of Cr-N coatings deposited by arc ion plating 期刊论文
Surface & Coatings Technology, 2010, 卷号: 204, 期号: 11, 页码: 1800-1810
作者:  X. S. Wan;  S. S. Zhao;  Y. Yang;  J. Gong;  C. Sun
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Arc Ion Plating  Cr-n Coating  Nitrogen Pressure  Pulse Bias Voltage  Chromium Nitride Films  Thin-films  Cathodic Vacuum  Tin  Behavior  Stress  Macroparticles  Evaporation  Plasma  Charge  
Influence of N-2 gas pressure and negative bias voltage on the microstructure and properties of Cr-Si-N films by a hybrid coating system 期刊论文
Journal of Vacuum Science & Technology A, 2008, 卷号: 26, 期号: 5, 页码: 1188-1194
作者:  Q. M. Wang;  I. W. Park;  K. Kim
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Cathodic Arc Plasma  Mechanical-properties  Sputtering Techniques  Substrate Bias  Nanocomposite Films  Ion-bombardment  Thin-films  Deposition  Temperature  Hardness